名称：控制仪和检测器
控制仪和检测器
独特的Modelock1测量系统可提供一般“有源振荡器”系统所不能得到的精确的晶体频率信息，这个精确性与为镀膜过程而设计的控制方法相结合，将为长的晶体寿命、低沉积速率和全沉积速率控制提供无比卓越的性能。
Modelock有效地消除了“模式跳动”的缺点，将晶体振荡保持在基本频率上，在IC/5中，Modelock提供单次测量分辨率0.005A，即使每秒测量10次，这个精度意味着平衡的沉积速率控制，对低沉积速率过程尤为重要。
IC/5膜层控制仪
具有Modelock测量技术多用途的IC/5理想地适用于控制多源、多坩埚、多材料或多过程系统的膜层沉积速率和膜厚。IC/5可满足即使最复杂。最高要求与特殊应用的需要。它擅长于过程控制、逻辑功能、程序和膜层储存容量，过程数据管理，尤其是沉积速率与膜厚的控制。IC/5备有适配电缆，易于安装至现有的装置中。
XTC/2膜层控制仪
功能强，易使用
用于不太复杂的过程要求，具有Modelock测量技术的XTC/2控制仪及经济又节省空间。记录仪输出不仅记录正常的沉积速率和膜厚值，还支持功率和沉积速率偏离的附加功能。
XTC/C膜层控制仪
建立您自己的接口
对于OEM，科研或其它应用，如用户愿意建立自己的接口，XTC/2膜层控制仪为您提供所需的基本技术，没有面板显示，没有键盘。其性能与尺寸完全与XTC/2相同，而价格更低。额外的优点是：用户软件将完全按您要求的方式工作。
XTM/2膜层监测器
优越的性能和价格
INFICON的XTM/2将Modelock技术的卓越测量速度与精度用于单一的监测器。价格只相当于常规的“有源振荡器”。XTM/2的频率精确度为0.1Hz/250毫秒。当置于16秒的均值时，准确地显示小至0.01A的沉积速率分辨。仪器的卓越测量功能，使它适用于监测任何标准的薄膜真空镀制过程，XTM/2易于配置为其它应用，如腐蚀和污染的研究。
